

- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實(shí)驗室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品

多組份氣體分析儀功能特點(diǎn):
1.內(nèi)置原裝進(jìn)口質(zhì)量流量計,流量顯示直觀方便,壽命長;
2.三種被測量介質(zhì)均有溫度補(bǔ)償功能,減小環(huán)境溫度對測量精度的影響;
3.歷史數(shù)據(jù)存儲功能,用戶可隨時本地查詢歷史數(shù)據(jù)和歷史曲線;
4.用戶可選裝海拔高度模塊,避免大氣壓力變化對測量精度的影響;
5.H2O、CO用戶可選配不同量程傳感器;
6.每一種測量介質(zhì)對應(yīng)一路模擬和報警輸出;
7.內(nèi)置報警蜂鳴器,冗余三種介質(zhì)的報警點(diǎn);
8.氧化鋯傳感器不通電、不消耗、壽命長、易維護(hù);
9.原裝進(jìn)口燃料電池電化學(xué)傳感器,響應(yīng)速度快、測量精度高、校準(zhǔn)周期長、抗弱酸;
10.進(jìn)口薄膜電容式傳感器,響應(yīng)迅速、靈敏度高;
11.傳感器具有自動保護(hù)功能,無需人工干預(yù);
12.無需基準(zhǔn)氣體,不受工作環(huán)境氧濃度影響;
13.對被測氣體具有很好的選擇性。
多組份氣體分析儀技術(shù)參數(shù):
顯示方式 |
640×480點(diǎn)陣LCD觸摸屏 |
測量范圍 |
氧濃度:10.00~ 99.99% O2 一氧化碳濃度:0~ 10ppm CO 露點(diǎn):-80.0~ 20.0℃(基本型) 100~ +20.0℃(擴(kuò)展型) |
測試精度 |
氧濃度:≤±1%FS 一氧化碳濃度:≤±1%FS 露點(diǎn):≤±1.2%FS |
重復(fù)性 |
≤±1% |
響應(yīng)時間 |
氧濃度:T90 ≤15S 一氧化碳:T90 ≤30S 露點(diǎn):T90 ≤50S |
模擬輸出 |
三路4-20mA.DC(非隔離輸出,負(fù)載電阻小于500歐姆),分別對應(yīng)三種測試介質(zhì)。 三路可編程干觸點(diǎn)型無源報警輸出(觸點(diǎn)*大容量220VAC/2A),分別對應(yīng)三種測試介質(zhì)。 |
通訊接口 |
RS232(默認(rèn))或RS485 |
樣氣流量 |
氧/一氧化碳通道0.4 ~ 0.6L/min 露點(diǎn)通道1.5 ~ 2L/min |
樣氣壓力 |
入口壓力0.1 ~ 0.5MPa,出口壓力為大氣壓 |
流量顯示 |
電子流量計 |
采樣方式 |
直通式 |
使用壽命 |
氧傳感器>5年(正常使用條件下) 一氧化碳傳感器>3年(正常使用條件下) 露點(diǎn)傳感器>5年(正常使用條件下) |
規(guī)格尺寸 |
176mm×350mm×356mm(H×W×D) |
開孔尺寸 |
176mm×307mm(H×W) |
供電電源 |
AV170 ~ 264V 50/60Hz,功耗小于20W |
氣路接口 |
NPT 1/8內(nèi)螺紋 |
安裝方式 |
嵌入式 |